山東力冠微電子裝備有限公司是一家集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售為一體的專業(yè)裝備制造企業(yè)，是中國電子專用設(shè)備工業(yè)協(xié)會會員、第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟副理事長單位。公司集中業(yè)內(nèi)科技人才致力于為廣大客戶提供非標產(chǎn)品客制化定制服務(wù)，主要客戶有國內(nèi)知名研究院所、高校研究實驗室及生產(chǎn)半導(dǎo)體材料的企業(yè)。

1、發(fā)展歷程

山東力冠成立于2013年，同年6月正式成為中國電子專用設(shè)備工業(yè)協(xié)會會員；2018年11月，被山東省科技廳認定為“高新技術(shù)企業(yè)”；2019年3月被第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟評為副理事長單位；2019年9月榮獲中國創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)大賽·國際第三代半導(dǎo)體專業(yè)賽優(yōu)勝獎。目前，該公司產(chǎn)值超1000萬，其產(chǎn)品主要有晶體提拉爐、氧化/擴散爐、低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備、RTP快速退火爐、真空退火爐、真空合金爐、砷化鎵晶體生長爐VGF/VB(HGF/HB) 、區(qū)熔爐、液相外延爐、藍寶石退火爐、銻化鎵晶體(LEC)單晶爐、真空爐、氫氣爐、磁控濺射鍍膜設(shè)備、化學(xué)氣相淀積設(shè)備（PECVD）、干法刻蝕設(shè)備、MOCVD、非標真空設(shè)備等，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體工藝處理設(shè)備、晶體生長設(shè)備、新材料生長設(shè)備等領(lǐng)域。

2、創(chuàng)新特點

公司技術(shù)力量雄厚，截至目前已通過授權(quán)專利30多個，其中，發(fā)明專利4個，實用新型專利17個，軟件著作權(quán)14個。公司十分注重人才引進和運用，擁有各類專業(yè)技術(shù)人員，其中碩士及以上學(xué)歷研發(fā)人員占比超過25%。未來，公司將繼續(xù)加大研發(fā)步伐，始終把目光聚焦于高端裝備需求的最前沿，致力于成為一家充滿活力和潛力的高端裝備供應(yīng)商，為發(fā)展振興國內(nèi)半導(dǎo)體工藝裝備，提升電子技術(shù)大國實力，貢獻一己之力！