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專業(yè)方向：微電子學、材料科學與工程、物理、化學工程 相關(guān)領域
核心經(jīng)驗：擁有3年及以上半導體行業(yè)，先進工藝干法蝕刻 (Dry Etching) 量產(chǎn)或研發(fā)相關(guān)經(jīng)驗，熟悉設備硬件（如電極、氣體管路、射頻匹配）對工藝的影響。
設備精通：熟練掌握主流干法蝕刻設備(AMAT/LAM/Tel) 的操作，維護和工藝調(diào)試，特別是用于高精度圖形蝕刻的設備（如 ICP, RIE, CCP 類型），
關(guān)鍵技能：
1：工藝開發(fā)能力：精通設計實驗（DOE），能獨立進行工藝參數(shù)優(yōu)化（如 RF功率、壓力、氣體比例、溫度、偏置電壓等），以達到關(guān)鍵的工藝指標（CD均勻性、CD bias、選擇比、側(cè)壁角度、粗糙度、缺陷控制）
2： 表征與分析：熟練掌握用于光罩蝕刻后表征的關(guān)鍵設備和技術(shù)（CD SEM,AFM,EDX,XPS等）
3：良率提升：有通過工藝優(yōu)化、缺陷控制和設備維護提升光罩蝕刻良率的成功經(jīng)驗。
4：數(shù)據(jù)分析與工具：精通使用數(shù)據(jù)分析軟件（如 JMP, Minitab, Excel 高級功能）進行工藝數(shù)據(jù)分析、統(tǒng)計過程控制（SPC）和建立工藝控制規(guī)范，能撰寫清晰、專業(yè)的實驗報告和技術(shù)文檔（SOP等）
5：協(xié)作與溝通:優(yōu)秀的團隊協(xié)作能力，能夠與設備工程師、質(zhì)量工程師、制造工程師、客戶服務團隊等其他部門有效溝通合作。
6：良好的口頭和書面溝通能力，能清晰地向技術(shù)和管理層匯報進展、問題和解決方案
加分項：具備掩模版/（mask/Reticle）干法蝕刻工藝開發(fā)、優(yōu)化和量產(chǎn)轉(zhuǎn)移的經(jīng)驗。熟悉光罩材料體系（如鉻基、鉬硅氧、相移材料等）及其蝕刻特性