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崗位職責(zé)
1. 算法開發(fā)與優(yōu)化：
o 負(fù)責(zé)開發(fā)基于人工智能的MPC算法，提升MASK制造中的光刻精度和效率。
o 優(yōu)化現(xiàn)有MPC算法，結(jié)合機(jī)器學(xué)習(xí)、深度學(xué)習(xí)等技術(shù)，提高算法的收斂速度和準(zhǔn)確性。
2. 數(shù)據(jù)處理與建模：
o 處理和分析芯片制造中的光刻數(shù)據(jù)，構(gòu)建高質(zhì)量的數(shù)據(jù)集。
o 設(shè)計(jì)和訓(xùn)練深度學(xué)習(xí)模型，用于MASK圖形的預(yù)測和校正。
3. 算法實(shí)現(xiàn)與部署：
o 將算法實(shí)現(xiàn)為高效、可擴(kuò)展的軟件模塊，并與現(xiàn)有EDA工具集成。
o 與硬件團(tuán)隊(duì)合作，優(yōu)化算法在GPU/TPU等硬件平臺上的性能。
4. 技術(shù)研究與創(chuàng)新：
o 跟蹤學(xué)術(shù)界和工業(yè)界的最新研究成果，探索AI在芯片制造中的應(yīng)用場景。
o 參與專利撰寫和技術(shù)文檔編寫，推動技術(shù)創(chuàng)新和知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)。
5. 團(tuán)隊(duì)協(xié)作與溝通：
o 與芯片設(shè)計(jì)、制造工藝、EDA工具開發(fā)等團(tuán)隊(duì)緊密合作，確保算法在實(shí)際生產(chǎn)中的有效應(yīng)用。
o 參與技術(shù)討論和評審，提供專業(yè)的技術(shù)支持和建議。
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任職要求
1. 教育背景：
o 計(jì)算機(jī)科學(xué)、電子工程、數(shù)學(xué)、物理或相關(guān)專業(yè)碩士及以上學(xué)歷。
2. 技術(shù)技能：
o 熟練掌握Python/C++等編程語言，具備良好的算法實(shí)現(xiàn)能力。
o 熟悉深度學(xué)習(xí)框架（如TensorFlow、PyTorch）和機(jī)器學(xué)習(xí)算法（如CNN、GAN、強(qiáng)化學(xué)習(xí)等）。
o 了解芯片制造流程，熟悉OPC/MPC、光刻工藝、EDA工具者優(yōu)先。
o 具備高性能計(jì)算（HPC）或并行計(jì)算經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先。
3. 經(jīng)驗(yàn)要求：
o 3年以上AI算法開發(fā)經(jīng)驗(yàn)，有芯片制造、光刻工藝或EDA工具開發(fā)經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先。
o 有實(shí)際項(xiàng)目經(jīng)驗(yàn)，能夠獨(dú)立完成算法設(shè)計(jì)、實(shí)現(xiàn)和優(yōu)化。
4. 軟技能：
o 具備良好的問題分析和解決能力，能夠應(yīng)對復(fù)雜的技術(shù)挑戰(zhàn)。
o 具備良好的溝通能力和團(tuán)隊(duì)協(xié)作精神，能夠跨團(tuán)隊(duì)合作。
o 具備較強(qiáng)的學(xué)習(xí)能力和創(chuàng)新意識，能夠快速掌握新技術(shù)。
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加分項(xiàng)
1. 熟悉半導(dǎo)體物理、光刻工藝或計(jì)算光刻技術(shù)。
2. 有GPU/TPU加速計(jì)算經(jīng)驗(yàn)，熟悉CUDA或OpenCL。
3. 在頂級會議或期刊（如CVPR、ICML、DAC）發(fā)表過相關(guān)論文。