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更新于 7月9日
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舉報(bào)

半導(dǎo)體工藝工程師

9000-13000元
  • 無(wú)錫新吳區(qū)
  • 經(jīng)驗(yàn)不限
  • 碩士
  • 全職
  • 招6人

職位描述

蝕刻工藝鍍膜工藝PVDCVDEtch電子/半導(dǎo)體/集成電路電子設(shè)備制造
崗位職責(zé)：
1、負(fù)責(zé)公司內(nèi)部新工藝的開(kāi)發(fā)，實(shí)驗(yàn)，驗(yàn)證工作；
2、負(fù)責(zé)公司內(nèi)部新工藝腔體對(duì)應(yīng)常規(guī)工藝的開(kāi)發(fā)，實(shí)驗(yàn)，驗(yàn)證工作；
3、為設(shè)備開(kāi)發(fā)提供技術(shù)支持，協(xié)助解決項(xiàng)目調(diào)試過(guò)程中的專業(yè)技術(shù)問(wèn)題，并形成報(bào)告；
4、負(fù)責(zé)整理和編寫(xiě)各種工藝資料，培訓(xùn)資料等 ；
5、異常數(shù)據(jù)收集分析及改善，改善設(shè)備效率，提升工藝能力；
6、領(lǐng)導(dǎo)交代的其他相關(guān)工作事宜。

任職要求：
1、應(yīng)屆碩士，微電子、物理學(xué)、化學(xué)、材料科學(xué)、半導(dǎo)體材料、材料物理與化學(xué)、等離子體等相關(guān)類專業(yè)；
2、研究課題與半導(dǎo)體物理氣相沉積和化學(xué)氣相沉積以及刻蝕相關(guān)的優(yōu)先考慮；
3、對(duì)PVD、CVD工藝、深硅Trench/cavity/TSV刻蝕工藝及金屬，介質(zhì)層等刻蝕工藝技術(shù)者感興趣的優(yōu)先考慮；
4、英語(yǔ)水平國(guó)家四級(jí)或以上水平；
5、能熟練使用OFFICE辦公軟件；
6、具備較強(qiáng)的溝通協(xié)調(diào)能力、理解和解決問(wèn)題能力、主動(dòng)性、執(zhí)行力強(qiáng)；
7、具備較好的報(bào)告撰寫(xiě)能力，形成標(biāo)準(zhǔn)SOP能力，以及技術(shù)分析報(bào)告和專利等文件的撰寫(xiě)；
8、能接受短期出差。

工作福利：五險(xiǎn)一金，雙休，過(guò)節(jié)費(fèi)，帶薪年假，免費(fèi)午餐、加班餐，交通補(bǔ)貼，通訊補(bǔ)貼，技能補(bǔ)貼、職稱補(bǔ)貼、生日蛋糕卡，定期體檢，團(tuán)建，季度獎(jiǎng)金、季度評(píng)優(yōu)獎(jiǎng)、年終獎(jiǎng)，年輕化團(tuán)隊(duì)，冬、夏令用品、意外險(xiǎn)、醫(yī)療險(xiǎn)、雙軌制晉升體系等

工作地點(diǎn)

新吳區(qū)無(wú)錫尚積半導(dǎo)體科技股份有限公司35-312廠房

職位發(fā)布者

張女士/人事專員

昨日活躍
立即溝通
公司Logo無(wú)錫尚積半導(dǎo)體科技股份有限公司
2008年以來(lái)，無(wú)錫尚積半導(dǎo)體科技股份有限公司團(tuán)隊(duì)陸續(xù)開(kāi)發(fā)了氧化釩薄膜沉積、吸氣薄膜沉積等核心技術(shù)，打破了國(guó)外公司壟斷地位，國(guó)內(nèi)市占率>80%。2020年初，應(yīng)國(guó)內(nèi)某行業(yè)頭部公司的邀請(qǐng)，自主設(shè)計(jì)了國(guó)產(chǎn)的PVD設(shè)備。無(wú)錫尚積專注于國(guó)產(chǎn)化率較低的薄膜沉積和刻蝕工藝,繼續(xù)打破壟斷，為用戶提供Turnkey Solution，追求創(chuàng)新與卓越。經(jīng)營(yíng)地址是無(wú)錫市新吳區(qū)長(zhǎng)江南路35-312號(hào)廠房。核心團(tuán)隊(duì)為中國(guó)早期半導(dǎo)體技術(shù)從業(yè)者，來(lái)自于業(yè)內(nèi)有名的半導(dǎo)體制造公司和國(guó)外半導(dǎo)體設(shè)備制造商，具備創(chuàng)始人超二十年、其他核心人員平均超十年的半導(dǎo)體行業(yè)從業(yè)經(jīng)驗(yàn)。
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