任職要求:
1、碩士及以上學歷,電子、微電子、光學、物理、集成電路等相關專業(yè)背景;
2、有超表面、超構透鏡、衍射光波導等微納光學相關領域研究或工作經歷;
3、熟悉光刻工藝的原理,有ArF DUV光刻工藝和設備操作經驗(有55nm及以下先進制程光刻工藝經驗優(yōu)先;有OPC應用經驗優(yōu)先)。
崗位職責:
1、負責超表面DUV光刻工藝技術開發(fā),制定新工藝流程和方法,完成新技術節(jié)點,解決工藝薄弱點并進行設計優(yōu)化;
2、負責超表面DUV光刻工藝的日常管理,包括工藝流程優(yōu)化、解決生產中的異常問題、支持新工藝技術量產驗證、推動工藝標準化和文檔更新完善等;
3、負責OPC數(shù)據(jù)分析,OPC模型建立及驗證,OPC程序建立及持續(xù)改進。