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1.負(fù)責(zé)光刻掩模版的制造工藝開發(fā)與維護(hù)，管理從圖形數(shù)據(jù)到成品出貨的全流程。
2.優(yōu)化工藝參數(shù)，監(jiān)控并提升掩模版的關(guān)鍵性能指標(biāo)（如 CD 均勻性、缺陷控制等）。
3.負(fù)責(zé)相關(guān)設(shè)備的工藝配方調(diào)試與日常維護(hù)，及時(shí)解決生產(chǎn)中遇到的工藝與缺陷問題。
4.與光刻團(tuán)隊(duì)協(xié)作，進(jìn)行新材料的掩模版工藝適配性驗(yàn)證。

任職要求：

1.本科及以上學(xué)歷，微電子、機(jī)械、物理、材料等相關(guān)專業(yè)。
2.具備 3 年以上掩模版制造工藝或半導(dǎo)體光刻相關(guān)經(jīng)驗(yàn)。
3.有主流掩模版廠工作經(jīng)驗(yàn)或熟悉 OPC、PSM 等先進(jìn)技術(shù)者優(yōu)先。
4.了解掩模版檢測標(biāo)準(zhǔn)與流程，能適應(yīng)潔凈室工作環(huán)境。
5.具備較強(qiáng)的質(zhì)量意識(shí)和分析解決問題的能力。