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崗位職責(zé)：
1.EDA工具開發(fā)與優(yōu)化：
1）主導(dǎo)EDA工具鏈的架構(gòu)設(shè)計(jì)，構(gòu)建模塊化、可擴(kuò)展的軟件框架，支持先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)的制造需求（如規(guī)則驗(yàn)證MRC、MPC、MDP、DFM等）
2）開發(fā)或定制MASK EDA工具模塊（如規(guī)則驗(yàn)證MRC、MPC、MDP、DFM等）。
3）設(shè)計(jì)高性能計(jì)算（HPC）架構(gòu)，優(yōu)化分布式計(jì)算（如HPC計(jì)算集群）、GPU加速和內(nèi)存管理，以處理TB級版圖數(shù)據(jù)。優(yōu)化EDA算法（如幾何圖形處理、并行計(jì)算、AI處理）以應(yīng)對大規(guī)模版圖數(shù)據(jù)的處理需求。
2.制造流程自動化：
設(shè)計(jì)并實(shí)現(xiàn)自動化腳本（Python/TCL/Perl）或軟件框架，推動各EDA工具的深度集成，提高處理效率。
開發(fā)數(shù)據(jù)分析和可視化工具，支持制造良率問題的快速定位（如熱點(diǎn)檢測、缺陷分析）。
3.工藝協(xié)同，跨團(tuán)隊(duì)協(xié)同與問題解決：
1）與工藝團(tuán)隊(duì)合作，將制造約束（如尺寸限制，pattern約束等）轉(zhuǎn)化為EDA工具的可執(zhí)行規(guī)則。
2）調(diào)試EDA工具在先進(jìn)工藝中的兼容性問題（如多層掩膜對齊、邊緣放置誤差EPE）。
4.系統(tǒng)架構(gòu)與集成
1）設(shè)計(jì)高擴(kuò)展性的EDA軟件架構(gòu)，支持分布式計(jì)算和云計(jì)算部署。
2）對接第三方EDA工具（如Mentor/Synopsys/Cadence）和內(nèi)部自研工具鏈。
5.技術(shù)創(chuàng)新
1）制定EDA軟件開發(fā)的技術(shù)路線圖，指導(dǎo)工程師實(shí)現(xiàn)關(guān)鍵模塊。
2）探索機(jī)器學(xué)習(xí)/AI在EDA制造領(lǐng)域的應(yīng)用（如pattern優(yōu)化、缺陷預(yù)測等）。
3）參與專利和技術(shù)白皮書的撰寫，主導(dǎo)專利、論文或行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)（如IEEE/ISO）的撰寫與申請。
任職要求
1.碩士/博士學(xué)歷，計(jì)算機(jī)科學(xué)、電子工程、微電子、計(jì)算數(shù)學(xué)或相關(guān)領(lǐng)域
2.10年以上EDA軟件開發(fā)經(jīng)驗(yàn)，其中5年以上架構(gòu)設(shè)計(jì)經(jīng)驗(yàn)，熟悉芯片制造全流程（從設(shè)計(jì)到掩膜生成）。
3.精通C++/Python，具備大規(guī)模軟件系統(tǒng)設(shè)計(jì)能力（如分布式系統(tǒng)、高性能計(jì)算）。
4. 深度掌握工藝建模（如OPC），EDA算法優(yōu)化（如幾何圖形處理、并行計(jì)算、機(jī)器學(xué)習(xí)加速），熟悉EDA工具底層技術(shù)（如數(shù)據(jù)庫管理、規(guī)則檢查算法、GPU加速）
5.有Foundry廠或相關(guān)EDA公司（如Synopsys/Cadence/Siemens）開發(fā)經(jīng)驗(yàn)優(yōu)先。