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1. 工藝基礎(chǔ)構(gòu)建，協(xié)助搭建實(shí)驗(yàn)室級(jí)磁控濺射/PVD鍍膜系統(tǒng)，參與設(shè)備調(diào)試與維護(hù)。執(zhí)行鍍膜實(shí)驗(yàn)，收集參數(shù)等關(guān)鍵數(shù)據(jù)。 2. 膜層開(kāi)發(fā)支持，在領(lǐng)導(dǎo)指導(dǎo)下設(shè)計(jì)單層/簡(jiǎn)易多層膜實(shí)驗(yàn)，完成光學(xué)/電學(xué)性能測(cè)試（分光光度計(jì)、四探針?lè)阶鑳x）。分析膜層缺陷（針孔、裂紋、附著力不足）并提出改進(jìn)思路。 3. 技術(shù)文檔沉淀，撰寫(xiě)實(shí)驗(yàn)報(bào)告、鍍膜SOP初稿及技術(shù)專(zhuān)利交底書(shū)。 4. 跨部門(mén)協(xié)作，對(duì)接檢測(cè)中心完成膜層表征（SEM截面觀測(cè)、XPS成分分析），協(xié)同生產(chǎn)部解決小試轉(zhuǎn)中試問(wèn)題。 任職要求 1. 教育背景，碩士學(xué)歷，材料物理、真空鍍膜、光學(xué)工程專(zhuān)業(yè)（研究方向需涉及薄膜技術(shù)） 科研經(jīng)驗(yàn)，碩士課題聚焦磁控濺射/PVD工藝，發(fā)表過(guò)薄膜相關(guān)SCI/EI論文。 2. 理論基礎(chǔ)，掌握以下知識(shí)體系：薄膜生長(zhǎng)機(jī)理，等離子體物理基礎(chǔ)，光學(xué)薄膜干涉理論等。 3. 工具技能，能獨(dú)立操作：鍍膜設(shè)備（至少一種：濺射/蒸鍍/離子鍍），基礎(chǔ)檢測(cè)儀器（臺(tái)階儀、分光光度計(jì)），數(shù)據(jù)分析工具。